FUJIFILM IX100 NIF — профессиональная безэкранная рентгеновская пленка нового поколения, обеспечивающая максимальную детализацию изображений при минимальной экспозиции. Технология NIF (No Intensifying Film) гарантирует исключительную четкость снимков без искажений.
Ключевые преимущества Технологическое превосходство проявляется в: • Максимальной разрешающей способности • Отсутствии геометрических искажений • Идеальной передаче мельчайших деталей • Стабильных показателях при разных условиях съемки • Экономичности использования • Высокой контрастности изображения
Области применения Универсальность применения делает пленку идеальной для: • Детального контроля сварных соединений • Диагностики тонкостенных конструкций • Исследований композитных материалов • Контроля электронных компонентов • Работы с низкоэнергетическим излучением • Медицинской визуализации • Контроля изделий из легких сплавов • Проверки сложных металлоконструкций
Особенности NIF-технологии Преимущества безэкранной съемки: • Максимальная точность передачи деталей • Минимальная потеря информации • Высокая контрастность изображения • Возможность работы при низких дозах излучения • Универсальность применения • Отсутствие влияния экранов на качество снимка
Технические характеристики Основные параметры пленки: • Ультравысокая чувствительность к излучению • Оптимальный коэффициент контрастности • Превосходная детализация изображения • Совместимость с различным рентгеновским оборудованием • Соответствие международным стандартам
Преимущества формата 30×40 Оптимальные размеры позволяют: • Контролировать габаритные объекты • Экономично использовать материал • Работать с объектами сложной конфигурации • Получать детальные изображения сложных конструкций • Оптимизировать процесс диагностики • Снижать количество необходимых экспозиций Пленка FUJIFILM IX100 NIF соответствует международным стандартам качества. В упаковке 100 листов. Рекомендуется хранить при температуре 10–25°C и влажности 30–60%. Срок годности — 36 месяцев с даты производства. Совместима с большинством проявочных систем.