FUJIFILM IX150 — инновационная рентгеновская пленка повышенной чувствительности, разработанная для получения максимально точных и детализированных снимков при минимальной экспозиции. Уникальная формула эмульсии обеспечивает превосходное качество визуализации в любых условиях съемки.
Ключевые преимущества Технологическое превосходство проявляется в: • Экстраординарной разрешающей способности • Высокой чувствительности к излучению • Стабильных показателях при различных условиях съемки • Идеальном балансе контрастности • Надежной защите от внешних воздействий • Экономичном расходе материала • Увеличенном динамическом диапазоне
Области применения Универсальность использования охватывает: • Детальный контроль сварных соединений • Диагностику сложных металлоконструкций • Проверку трубопроводов • Исследование литых изделий • Контроль авиационных компонентов • Промышленную дефектоскопию • Научные исследования • Медицинскую визуализацию
Особенности упаковки Envelopak + PB Комплексная защита обеспечивается: • Специальной защитной оболочкой Envelopak • Интегрированными свинцовыми экранами (PB) • Герметичностью от света и влаги • Сохранностью свойств до окончания срока годности • Удобством при транспортировке
Технические характеристики Основные параметры пленки: • Повышенная чувствительность к излучению • Оптимальный коэффициент контрастности • Превосходная детализация изображения • Совместимость с различным оборудованием • Соответствие международным стандартам • Улучшенная передача тонких структур
Преимущества формата 30×40 Оптимальные размеры позволяют: • Эффективно контролировать габаритные объекты • Экономично использовать материал • Работать с объектами сложной конфигурации • Получать детальные изображения сложных конструкций • Оптимизировать процесс диагностики • Снижать количество необходимых экспозиций Пленка FUJIFILM IX150 соответствует международным стандартам качества. В упаковке 100 листов. Рекомендуется хранить при температуре 10–25°C и влажности 30–60%. Срок годности — 36 месяцев с даты производства. Совместима с большинством проявочных систем.