Рентгеновская пленка FUJIFILM IX100 Envelopak + PB 10х24

FUJIFILM
14250,00
р.
FUJIFILM IX100 — ультрачувствительная рентгеновская пленка нового поколения, обеспечивающая максимальную детализацию снимков при минимальной экспозиции. Благодаря передовой формуле эмульсии достигается исключительное качество визуализации даже в сложных условиях съемки.

Ключевые преимущества
Технологическое превосходство проявляется в:
• Максимальной разрешающей способности
• Стабильных показателях при любых условиях съемки
• Идеальном балансе контрастности
• Высокой чувствительности к излучению
• Надежной защите от внешних воздействий
• Экономичном расходе материала

Области применения
Универсальность использования позволяет применять пленку в:
• Контроле сварных швов протяженных конструкций
• Диагностике трубопроводов
• Исследовании машиностроительных деталей
• Контроле длинномерных изделий
• Промышленной дефектоскопии
• Лабораторных исследованиях
• Проверке композитных материалов

Особенности упаковки Envelopak + PB
Комплексная защита обеспечивается:
• Специальной защитной оболочкой Envelopak
• Интегрированными свинцовыми экранами (PB)
• Герметичностью от света и влаги
• Сохранностью свойств до окончания срока годности
• Удобством при транспортировке

Технические характеристики
Основные параметры пленки:
• Ультравысокая чувствительность к излучению
• Оптимальный коэффициент контрастности
• Превосходная детализация изображения
• Совместимость с различным рентгеновским оборудованием
• Соответствие международным стандартам

Преимущества формата 10×24
Удлиненный размер позволяет:
• Эффективно контролировать протяженные объекты
• Экономично использовать материал
• Работать с криволинейными поверхностями
• Создавать панорамные снимки
• Оптимизировать процесс диагностики
• Получать детальные изображения сложных конструкций
Пленка FUJIFILM IX100 соответствует международным стандартам качества. В упаковке 50 листов. Рекомендуется хранить при температуре 10–25°C и влажности 30–60%. Срок годности — 36 месяцев с даты производства. Совместима с большинством проявочных систем.